Le projet concerne le développement d’une technologie innovante de dépôt de diamant sur des substrats de géométrie annulaire avec un plasma de même géométrie. Les objectifs du projet sont à la fois de développer le démonstrateur d’un équipement de synthèse de diamant utilisant la technologie CVD plasma toroïdal et les procédés de dépôt de diamant, mais aussi de commencer le développement du business pour les applications qui tirent avantage de cette technologie de plasma toroïdale.